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液化空气（Air Liquide） · AL-NF3-5N
该产品为ALPHAGAZ™品牌液三氟化氮，纯度≥99.999%，专为尖端半导体制造（如5nm及以下节点）设计。采用专利纯化技术，金属杂质和颗粒物控制在ppt级别。包装采用特制高真空绝热杜瓦，内置多重安全传感器和远程监控模块。每一批次均附带详细分析证书（CoA），确保可追溯性。适用于极苛刻的CVD腔体清洗和原子层刻蚀（ALE）工艺。
极致纯度保障；全球品质统一；全生命周期追溯；尖端技术支持
液化空气集团曾为国际空间站提供气体供应；；ALPHAGAZ™品牌已有超过30年历史，是电子特气领域的标杆。
华特气体 · HT-NF3-48
该产品为高纯液三氟化氮，纯度≥99.98%，适用于LED芯片刻蚀、光伏电池片清洗及一般科研实验。采用低温精馏工艺，关键杂质如H₂O、O₂、CO₂均控制在1ppm以下。包装为40L/200L标准杜瓦罐，配备安全阀和防震底座。特别适合对纯度要求中等但注重成本控制的用户，在高校实验室和中小型半导体企业中应用广泛。
成本优势明显；交付周期短；操作便捷安全；适用场景广泛
液三氟化氮在常温下会迅速气化，体积膨胀约600倍；；它也是制造氟化氩（ArF）准分子激光器的重要原料之一。
金宏气体 · JH-NF3-5N
该产品为电子级液三氟化氮，纯度达99.999%，专为先进制程半导体清洗和刻蚀设计。采用多级精馏与在线分析技术，确保颗粒物和金属杂质控制在亚ppb级别。包装采用高真空多层绝热杜瓦，配备防爆阀和液位监测系统。适用于12英寸晶圆厂CVD腔体清洗、MEMS器件制造等高端应用场景。
极限纯度保障良率；全链条质量追溯；大规模供应能力；行业认证齐全
液三氟化氮的温室效应潜值（GWP）是CO₂的17200倍，但使用量远小于传统气体；；金宏气体是国内少数能同时供应5N级NF₃和CF₄的企业。
中科富海 · ZKF-NF3-4N
该产品为高纯度液三氟化氮，纯度≥99.99%，采用低温精馏与吸附纯化技术，金属离子含量极低。适用于半导体CVD腔体清洗、LED外延片刻蚀及实验室材料表面处理。包装为不锈钢杜瓦罐，配备安全泄压阀，支持按需分装。在多家科研院所和晶圆厂验证中表现出色，气体杂质残留＜1ppm。
高纯度保障工艺良率；国产供应链安全；低温安全存储设计；快速响应技术支持
液三氟化氮在常压下沸点仅-129℃，比液氮还低30℃；；它被广泛用于替代CF₄等温室效应更强的刻蚀气体。