迈格 氧化铝抛光粉
迈格 · MG-AL-02
迈格氧化铝抛光粉采用工业级高纯氧化铝原料，经机械研磨与筛分制成。提供0.5μm和1μm两种常用粒径，适用于钢铁、铸铁等金属样品的粗抛与中抛。产品包装实用，配有密封盖，防潮性能好。适合对成本敏感且抛光精度要求不高的日常检测场景，如铸造厂、机械加工企业的金相分析。
品牌故事
亲民；实用；快速供应
科技原理 · 冷知识
迈格抛光粉的包装瓶可重复利用，环保设计；该品牌在中小型铸造企业的市场占有率超过40%
氧化铝抛光粉
综合评分排行 · 4 款商品
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最近更新：2020-01-01
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迈格 · MG-AL-02
迈格氧化铝抛光粉采用工业级高纯氧化铝原料，经机械研磨与筛分制成。提供0.5μm和1μm两种常用粒径，适用于钢铁、铸铁等金属样品的粗抛与中抛。产品包装实用，配有密封盖，防潮性能好。适合对成本敏感且抛光精度要求不高的日常检测场景，如铸造厂、机械加工企业的金相分析。
亲民；实用；快速供应
迈格抛光粉的包装瓶可重复利用，环保设计；该品牌在中小型铸造企业的市场占有率超过40%
司特尔 · Struers AP-D
Struers AP-D 氧化铝抛光粉专为最终抛光设计，采用专利的化学-机械抛光（CMP）技术，颗粒表面经特殊改性处理。适用于高硬度材料（如硬质合金、陶瓷）及涂层样品的无划痕抛光。配合Struers DP-Lubricant使用，可显著减少表面变形层，获得原子级平整表面，满足EBSD、AFM等高级分析需求。
极致；创新；百年传承
Struers的CMP技术最初为半导体行业开发；AP-D的粒径控制精度达到±0.005μm
科晶 · KJ-AL-01
科晶高纯氧化铝抛光粉采用国产高纯氧化铝原料，经气流粉碎与分级处理，粒径分布窄。适用于钢铁、铜铝等金属及陶瓷样品的常规金相抛光。产品提供多种粒径规格（0.05μm、0.3μm、1μm），可满足从粗抛到精抛的全流程需求。配合科晶自产抛光布使用，效果稳定，适合批量样品处理。
实惠；稳定；本土化服务
科晶抛光粉的原料来自国产高纯氧化铝，成本仅为进口的1/5；该品牌在高校材料实验室的覆盖率超过60%
Presi · P-AL-005
Presi 氧化铝抛光粉采用特殊煅烧工艺，颗粒呈规则球形，分散性优异。适用于铝合金、铜合金等软质金属及塑料、玻璃等非金属材料的精密抛光。其独特的表面活性处理可减少抛光过程中的划伤和嵌入，配合Presi专用润滑液使用，能显著提升抛光效率，适合手动和自动抛光机。
环保；高性价比；用户友好
Presi的抛光粉配方不含任何有毒添加剂；其球形颗粒设计灵感来自自然界花粉结构
Buehler · 40-1008-016
Buehler 氧化铝抛光粉专为金相样品最终抛光设计，采用高纯度α-氧化铝晶体，经严格分级工艺制成。适用于钢铁、有色金属、陶瓷及复合材料等硬质样品的镜面抛光。配合MicroCloth抛光布使用，可快速去除细微划痕，获得无变形、无污染的理想表面，满足SEM、EDS等后续分析要求。
精密；可靠；全球标准
Buehler的抛光粉曾用于航天飞机材料分析；其粒径控制精度达到纳米级，可媲美部分进口研磨液