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深圳中微半导体 · AMEC-EBR-400
AMEC-EBR-400是一款旗舰级电子束光刻胶修复系统，采用双电子束并行修复技术与实时剂量调控，修复精度达3nm。支持12英寸晶圆及多层光刻胶结构修复，集成在线检测模块，可实时监控修复质量。适用于5nm及以下节点量产线，是高端制造的核心装备。
极致性能；量产可靠；在线监控；国际对标
该设备的核心双电子枪系统由AMEC自主研发，包含200余项专利。；曾用于某国际大厂3nm芯片试产，修复效率提升40%。
苏州纳微科技 · NanoBeam-EBR-100
NanoBeam-EBR-100是一款经济型电子束光刻胶修复仪，专为光刻胶局部缺陷修复优化。采用单级电子透镜与手动对焦设计，修复精度达50nm，适合科研教学及小批量试产。支持多种光刻胶类型，操作简单，维护成本低，是入门级用户的理想选择。
低成本；易维护；教学适用；快速交付
该设备采用模块化设计，用户可自行升级电子枪组件。；曾用于中学生科技创新项目，成功修复纳米压印模板缺陷。
北京华大九天 · Huada-EMBR-500
Huada-EMBR-500是一款高性能电子束光刻胶修复系统，采用多级电子光学透镜与实时像差校正技术，修复精度达5nm。支持大尺寸晶圆（8英寸）及复杂图形修复，配备AI辅助缺陷识别算法，可自动优化修复参数，适用于先进制程研发与量产线。
极致精度；智能化；大尺寸兼容；高稳定性
该设备的核心算法源自清华大学微电子所，训练数据超过10万张缺陷图像。；曾助力某国产AI芯片流片，将光刻胶缺陷率从3%降至0.5%。
上海微电子装备 · SMEE-EBR-200
SMEE-EBR-200是一款紧凑型电子束光刻胶修复工作站，专为光刻胶局部缺陷修复设计。采用低电压电子束技术，减少对敏感衬底的损伤，修复精度达20nm。集成智能视觉定位系统，可自动识别缺陷位置并执行修复，适用于科研院所及小批量生产场景。
低损伤；易操作；紧凑；经济性
该设备曾用于修复石墨烯光刻胶图案，修复后电学性能恢复率达95%。；SMEE团队从立项到量产仅用18个月，创下公司研发纪录。
中科科仪 · KYKY-EMBR-3000
KYKY-EMBR-3000是一款专为电子束光刻胶修复设计的精密设备，采用高稳定电子光学系统与智能反馈控制技术，可对纳米级光刻胶缺陷进行精准修复。支持多种光刻胶类型，修复精度达10nm，适用于半导体制造、MEMS及光电子器件研发，操作界面友好，支持自动化流程。
高精度；国产自主；自动化；高性价比
该设备的核心电子枪源自中科院电子所技术积累，历经三代迭代。；曾用于修复某国产芯片项目中0.5μm线宽的光刻胶缺陷，良率提升12%。