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最近更新：2020-01-01
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富士胶片电子材料 · OiR 906 Developer
Fujifilm OiR 906显影液是专为i-line和KrF光刻胶设计的碱性显影液，采用环保型表面活性剂配方，显影速度快且泡沫少。适用于0.25-0.5μm线宽工艺，对曝光区域选择性高，显影后图形保真度好。产品经过严格质量控制，金属离子含量<1ppb，适合CMOS图像传感器和功率器件制造。支持循环使用，经济性佳。
环保安全；高选择性；低缺陷；工艺兼容
富士胶片电子材料的前身是富士胶片的光刻材料部门。；OiR 906显影液在部分工艺中可替代传统TMAH显影液。
JSR · THMR iNPS Developer
JSR THMR iNPS显影液是专为i-line正性光刻胶设计的高性能显影液，采用专利配方优化显影速率和选择性。适用于0.35-0.5μm线宽工艺，显影后图形侧壁陡直，CD均匀性优异。产品经过多级过滤，颗粒和金属离子含量极低，适合先进封装和功率器件制造。支持手动和自动显影设备，兼容性好。
高精度；低缺陷；工艺窗口宽；批次一致性
JSR是全球少数能同时生产光刻胶和显影液的企业之一。；THMR iNPS显影液在日本本土市场占有率超过40%。
Kayaku Advanced Materials · AZ 300 MIF Developer
AZ 300 MIF显影液是一种不含金属离子的正性光刻胶显影液，主要成分为四甲基氢氧化铵（TMAH）水溶液，浓度2.38%。专为AZ系列及同类正性光刻胶设计，显影速度快（通常30-60秒），图形保真度高，对铝、铜等金属层无腐蚀。适用于i-line和g-line光刻工艺，支持0.5μm以上线宽，广泛用于IC制造、MEMS和化合物半导体领域。
高纯度；显影均匀；工艺兼容性；低缺陷
AZ 300 MIF是全球用量最大的正性光刻胶显影液之一。；TMAH显影液在半导体行业已使用超过30年。
MicroChem · SU-8 2000 Developer
SU-8 2000 Developer是专为SU-8 2000系列负性光刻胶配套使用的显影液，采用高纯度有机溶剂配方，能快速溶解未曝光区域，保留高精度图形结构。适用于厚膜光刻工艺（1-200μm），支持高深宽比（>20:1）结构显影，对曝光区域损伤极小。产品经过严格过滤，颗粒度<0.2μm，批次一致性优异，是MEMS和微流控领域的标准显影液。
高分辨率；工艺稳定性；低缺陷率；批次一致性
SU-8最初是为微电子封装开发，后来成为MEMS领域最常用的光刻胶之一。；该显影液在深紫外光刻中也能保持良好性能。