电子束光刻胶湿法清洗机
上海微电子装备（SMEE） · SMEE-WC-100
SMEE-WC-100是一款湿法清洗设备，采用化学溶剂结合超声波辅助，专门用于电子束光刻胶的剥离和清洗。设备支持正胶和负胶工艺，配备自动温控和循环过滤系统，可处理4英寸及以下基片。清洗时间短，单批次处理量高，适合实验室和中试线使用。
品牌故事
经济实惠；操作简便；低维护；本土服务
科技原理 · 冷知识
该设备是SMEE光刻机配套清洗方案的一部分。；SMEE曾用该设备为国内某高校清洗出首批国产量子点光刻图案。
电子束光刻胶清洗设备
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好物百科
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电子束光刻胶湿法清洗机
品牌故事
科技原理 · 冷知识
PlasmaPro 100 光刻胶清洗系统
牛津仪器（Oxford Instruments） · PlasmaPro 100
PlasmaPro 100是一款多功能等离子体清洗系统，专为电子束光刻胶去除和表面活化设计。采用远程等离子体源，可避免离子轰击损伤，支持O2、CF4、SF6等多种气体。设备配备自动基片传输和终点检测，可处理4~8英寸晶圆，清洗均匀性达98%以上，适合研发和小批量生产。
品牌故事
工艺灵活性；高洁净度；无损伤；自动化
科技原理 · 冷知识
该设备曾用于石墨烯器件的光刻胶清洗，表面无残留。；牛津仪器为欧洲多个量子计算项目提供清洗设备。
光刻胶等离子清洗机
北方华创（NAURA） · NAURA PSC-150
NAURA PSC-150是一款针对电子束光刻胶清洗的等离子体系统，采用电感耦合等离子体（ICP）源，支持多步清洗程序。设备可处理6英寸及以下基片，配备在线颗粒监测和自动匹配网络，清洗效率高，颗粒残留低于0.1μm。适用于化合物半导体和MEMS器件的光刻胶剥离。
品牌故事
高性价比；国产自主；易维护；多工艺兼容
科技原理 · 冷知识
北方华创的清洗设备曾用于国产5G基站芯片的试制。；该公司是国内少数能提供光刻胶清洗+刻蚀一体化解决方案的厂商。
电子束光刻胶等离子清洗系统
莱宝（Leybold） · Leybold EBC-300
Leybold EBC-300是一款高端电子束光刻胶清洗系统，采用微波等离子体源，支持Ar/O2混合气体，可处理8英寸及以下晶圆。设备配备闭环压力控制和终点检测功能，清洗速率可调，残留物去除率高达99.9%。适用于先进制程研发和量产线，尤其适合高精度光刻胶剥离。
品牌故事
高精度；高可靠性；先进工艺兼容；闭环控制
科技原理 · 冷知识
莱宝的真空技术曾用于欧洲核子研究中心（CERN）的大型强子对撞机。；该设备在台积电部分产线有应用案例。
电子束光刻胶清洗机
中科科仪 · KYKY-EMC-200
KYKY-EMC-200是一款专为电子束光刻工艺设计的等离子体清洗设备，采用射频氧等离子体技术，可高效去除基片表面的有机光刻胶残留。设备配备智能温控系统和多腔体设计，支持4英寸及以下晶圆批量处理，清洗均匀性优于95%，适用于科研院所和中小型半导体生产线。
品牌故事
高均匀性；低损伤；国产替代；智能温控
科技原理 · 冷知识
该设备曾用于嫦娥五号月壤样品的光刻胶清洗预处理。；中科科仪是国内唯一能同时生产电子显微镜和配套清洗设备的厂商。