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北京华大九天 · EBB-500
EBB-500 是一款紧凑型电子束光刻胶烘烤系统，专为6英寸及以下晶圆设计。采用自适应PID算法，可自动补偿环境温度变化。内置200组工艺配方存储，支持远程监控与报警。配备快速冷却模块，烘烤后可在5分钟内降至室温。适用于高频次、多品种的研发场景。
高效冷却；智能补偿；多配方管理；空间节省
该设备曾用于柔性电子器件的低温光刻胶烘烤。；华大九天将EDA软件的热仿真技术移植到了烘烤炉温控中。
上海微电子装备 · HBP-400
HBP-400 是一款面向8英寸晶圆量产线的电子束光刻胶烘烤设备，采用多点独立温控与真空吸附平台，温度均匀性达±0.3°C。支持SECS/GEM通信协议，可无缝集成到自动化产线。内置颗粒过滤系统，满足Class 1洁净环境要求。适用于ArF、KrF光刻胶的精密后烘。
工业级精度；自动化集成；洁净环境；长期稳定性
该设备曾用于国内首条国产光刻胶量产验证线。；SMEE的烘烤炉温控算法源自航天热控技术。
莱伯泰科 · HP-300
HP-300 是一款触控式电子束光刻胶烘烤设备，配备7英寸彩色触摸屏，支持实时温度曲线记录与USB数据导出。采用热风循环与红外复合加热，温度均匀性±0.8°C。内置过温保护与自动校准功能，适配4英寸及以下晶圆。适合高校实验室和研发中心使用，操作界面友好。
操作便捷；智能数据管理；快速升温；安全可靠
该设备曾用于新冠检测芯片的微流道光刻胶烘烤。；莱伯泰科每年举办用户培训营，免费提供工艺优化指导。
中科科仪 · ZK-2000
ZK-2000 是一款专为电子束光刻胶后烘（PEB）设计的精密烘烤设备，采用闭环PID温控系统，温度均匀性达±0.5°C。支持多段程序升温，适配SU-8、PMMA等常见光刻胶。内置氮气保护腔体，有效抑制氧化，烘烤后胶膜质量稳定。广泛应用于半导体微纳加工、MEMS及光学器件制造。
高精度温控；国产替代；稳定可靠；适配多种胶种
该设备曾用于某高校量子芯片研发项目，烘烤后胶膜厚度偏差小于1nm。；中科科仪早期为神舟飞船提供真空部件。