电子束抗蚀剂
综合评分排行 · 4 款商品
切换同级分类：
评测维度与权重
综合评分 = 各维度评分按权重加权平均；点击维度可按该维度单独排序
- 质量最好权重 20%用料做工与品控最优
- 最实用权重 19%核心用途表现与场景适配最优
- 最耐用权重 16%使用寿命最优
- 设计最美观权重 14%外观与人体工学设计最优
- 品牌最佳权重 16%品牌口碑最优
- 性价比最高权重 16%同规格综合成本最优
最近更新：2020-01-01
排序：
1综合 98.1 分¥850
- 质量最好—
- 最实用—
- 最耐用—
- 设计最美观—
- 品牌最佳—
- 性价比最高98.1
2综合 89.5 分¥420
- 质量最好—
- 最实用—
- 最耐用—
- 设计最美观—
- 品牌最佳—
- 性价比最高89.5
3综合 83.9 分¥1200
- 质量最好76.1
- 最实用—
- 最耐用—
- 设计最美观—
- 品牌最佳94.1
- 性价比最高—
4综合 81.4 分¥680
- 质量最好73.9
- 最实用—
- 最耐用—
- 设计最美观—
- 品牌最佳91.2
- 性价比最高—
好物百科
来自社区口碑与模糊测评的百科内容：品牌故事、科技原理冷知识、名人网红评价与网络热词
Kayaku PMMA 950K 正性电子束抗蚀剂
Kayaku Advanced Materials · PMMA 950K A4
PMMA 950K是一种高分子量聚甲基丙烯酸甲酯正性电子束抗蚀剂，具有极高的分辨率和极低的缺陷密度。950K分子量版本适合制备厚膜（0.5-2μm），在电子束曝光下可实现<5nm的线宽。显影工艺简单，使用MIBK:IPA混合液。广泛应用于纳米电子学、超导器件、X射线掩模等前沿领域。
品牌故事
极致分辨率；高纯度；工艺成熟；全球认可
科技原理 · 冷知识
PMMA抗蚀剂最初用于电子显微镜的样品制备，后来被引入电子束光刻。；950K中的'K'代表千，即分子量950,000，是常见版本中分子量最高的。
晶方科技 JFR-1000 正性电子束抗蚀剂
苏州晶方 · JFR-1000
JFR-1000是一种国产正性电子束抗蚀剂，专为电子束直写光刻工艺设计。具有适中的灵敏度和良好的分辨率，可满足100nm以上线宽需求。适用于硅、氧化硅、氮化硅等常见基底，显影工艺兼容标准TMAH显影液。适合科研教学、小批量器件制备及工艺开发。
品牌故事
经济实惠；国产化；易用性；快速交付
科技原理 · 冷知识
晶方科技的名称取自'晶圆封装'的缩写，公司最初专注于封装材料。；JFR-1000的配方经过多次优化，显影时间比同类产品缩短20%。
Allresist AR-P 6200系列 正性电子束抗蚀剂
Allresist · AR-P 6200.09
AR-P 6200.09是一种高灵敏度正性电子束抗蚀剂，专为纳米级图形化设计。具有优异的对比度和分辨率，可达到10nm以下线宽。适用于硅、玻璃、金属等多种基底，显影工艺简单，抗刻蚀性能良好。常用于纳米电子器件、量子点、光子晶体等前沿研究。
品牌故事
高灵敏度；超高分辨率；工艺稳定性；宽工艺窗口
科技原理 · 冷知识
Allresist 的AR-P系列抗蚀剂被欧洲多个纳米技术中心指定为标准材料。；该产品在量子计算芯片制造中也有应用。
MicroChem SU-8 2000系列 负性光刻胶
MicroChem · SU-8 2005
SU-8 2000系列是一种环氧基负性光刻胶，专为高深宽比微结构加工设计。SU-8 2005型号适合制备5μm左右厚度的薄膜，具有优异的附着力、热稳定性和化学抗性。适用于紫外光刻和电子束直写工艺，广泛应用于MEMS器件、微流控芯片、光波导和微模具制造。
品牌故事
高分辨率；优异附着力；热稳定性强；工艺成熟
科技原理 · 冷知识
SU-8最初是为微电子封装开发的，后来意外成为MEMS领域最常用的光刻胶之一。；其名称中的'SU'代表'Shellac'（虫胶）的缩写，源于早期配方灵感。