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新芝 · SB-5200D
SB-5200D采用40kHz频率，功率240W，适合小尺寸硅片及碎片清洗。内槽尺寸240×140×100mm，容量3.2L，桌面式设计节省空间。配备数字定时和加热功能，温控精度±1℃。设备采用降噪设计，运行噪音低于50dB。特别适合实验室少量样品清洗，如硅片切割后去屑和去蜡。
小巧便携；精准可靠；静音运行
该机型被多所985高校材料学院批量采购，用于本科生实验教学，年销量超5000台。
固特 · GT-2000S
GT-2000S配备28kHz低频超声波，功率高达600W，适合清洗厚硅片或表面顽固污染物。内槽尺寸达500×300×200mm，可同时处理多片6英寸硅片。设备采用工业级电路设计，支持24小时连续运行，并配有循环过滤系统，延长清洗液寿命。加热功率1000W，升温迅速，适合批量生产场景。
强劲动力；持久稳定；低成本运维
该机型曾用于某大型光伏厂硅片清洗线，单日处理量超过2000片，连续运行3年未大修。
科工 · KQ-300DE
KQ-300DE采用53kHz高频超声波，配合智能扫频技术，避免清洗死角，特别适合2-6英寸硅片。设备内置微电脑控制系统，可存储10组清洗程序，支持分段清洗。内槽为加厚SUS316L不锈钢，耐酸碱性能优异。配备自动补水及液位保护功能，安全性高。整机噪音低于55dB，适合安静实验室环境。
精密均匀；智能便捷；安全耐用
该机型被某国家级半导体实验室选为标准化清洗设备，累计清洗硅片超过10万片零故障。
洁盟 · JP-100S
JP-100S专为硅片、石英片及光学玻璃设计，采用40kHz高频超声波，配合数字式加热与定时功能，能有效去除硅片表面微尘、油污及蜡质残留。内槽采用SUS304不锈钢，耐腐蚀且易清洁。设备具备脱气功能，可提升清洗均匀性，适合实验室小批量及中试生产使用。操作面板简洁，支持连续工作，噪音低于60dB。
高效去污；精准控温；耐用不锈钢
该机型在光伏行业被称为'硅片美容师'，曾用于某高校太阳能电池研发项目，清洗后电池效率提升0.3%。