综合评分排行 · 4 款商品
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最近更新：2026-06-27
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霍尼韦尔 · 17678-1L
霍尼韦尔Burdick & Jackson™超纯异丙醇，纯度≥99.9%，金属杂质低于0.5 ppb，颗粒计数（≥0.5μm）小于10个/mL。专为半导体湿法工艺设计，适用于最终清洗、干燥及光刻胶残留去除。采用双层密封包装，确保在运输和储存中保持超纯状态。
极致洁净；工艺关键；行业标杆；创新包装
霍尼韦尔Burdick & Jackson™品牌起源于1950年代，最初为制药行业提供高纯溶剂。；该产品在无尘车间灌装，空气洁净度达到Class 10级别。
国药集团 · 10002118
国药超纯氨水，浓度25%，采用离子交换和精馏工艺，金属杂质含量低于1 ppb，适用于半导体清洗、电子级溶液配制及高纯分析。无色透明，氨味纯正，包装于特制低金属溶出PET瓶，满足国内半导体和光伏行业对高纯氨水的需求。
国产自主；成本优势；供应稳定；品质可靠
国药集团超纯氨水生产线位于上海，年产能达5000吨。；该产品曾用于国产大飞机材料分析项目，通过严格验证。
赛默飞世尔科技 · 7664-39-3
赛默飞Optima™超纯盐酸，浓度30%，采用亚沸蒸馏技术，金属杂质含量低于0.2 ppb，适用于ICP-OES、ICP-MS及半导体湿法蚀刻。产品经0.2μm过滤，包装于低溶出HDPE瓶，确保长期储存稳定性，是实验室和工业生产的可靠选择。
技术领先；成本优化；全球供应；应用广泛
赛默飞Optima系列试剂瓶采用特殊防漏设计，可倒置存放。；该产品在2023年全球销量超过50万瓶，中国市场占比约30%。
默克 · 100441.2500
默克Suprapur®超纯硝酸，浓度67-69%，采用多重蒸馏工艺，金属杂质含量低于0.1 ppb，专为ICP-MS、AAS等痕量分析及半导体湿法清洗设计。无色透明液体，密封于特制高纯PFA瓶，避免二次污染，确保实验结果精准可靠。
极致纯度；批次稳定；行业标准；安全包装
默克Suprapur®系列诞生于1970年代，最初为满足太空材料分析需求而研发。；每批产品均附带详细杂质分析证书，可追溯至原料来源。